ဆမ်ဆောင်းက EUV ၁၅ လုံးကိုမှာလိုက်တယ်။ ပစ္စည်းကိရိယာရှာရတာခက်တယ်

TSMC (၂၃၃၀) က ၇-nm စွမ်းအားရှိသော version နှင့် ၅-nm EUV lithography နည်းပညာကိုစျေးကွက်ထဲသို့အောင်မြင်စွာတင်ပို့နိုင်ခဲ့သည်။ ကိုရီးယားမီဒီယာများက Samsung သည် semiconductor ပစ္စည်းထုတ်လုပ်သူ ASML မှ EUV ပစ္စည်း ၁၅ ခုကိုမှာယူခဲ့သည်ဟုဖော်ပြခဲ့သည်။ ထို့အပြင် Intel, Micron နှင့် Sea Lux တို့သည် EUV နည်းပညာကိုအသုံးပြုရန်စီစဉ်ထားပြီး၊ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းသည် EUV (အစွန်းရောက်ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်) ကိရိယာများကိုတိုက်ထုတ်ရန်စတင်ခဲ့သည်။

TSMC မှမကြာသေးမီကကြေငြာခဲ့သည်။ ၇ နာနိုမီတာမြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ဖြစ်စဉ်သည်စက်မှုလုပ်ငန်းများအား EUV lithography နည်းပညာကိုမိတ်ဆက်ရန်ဖောက်သည်များအနေဖြင့်စျေးကွက်ထဲသို့ ၀ င်ရောက်ရန်များစွာအထောက်အကူဖြစ်စေခဲ့ပြီး ၂၀၂၀ ပထမနှစ်ဝက်တွင် ၅ နာနိုမီတာအမြောက်အများထုတ်လုပ်မှုကိုလည်းမိတ်ဆက်သွားမည်ဖြစ်သည်။ EUV လုပ်ငန်းစဉ်။ ကိုရီးယားမီဒီယာများမှဖော်ပြချက်အရ ၂၀၃၀ တွင်ကမ္ဘာ့နံပါတ်တစ် semiconductor ထုတ်လုပ်သူဖြစ်လာရန်နှင့်လာမည့် ၂ နှစ်မှ ၃ နှစ်အတွင်း 5G စီးပွားကူးသန်းမှုမှရရှိသော semiconductor စျေးကွက်ဝယ်လိုအားကိုသိမ်းဆည်းရန် founder ခေါင်းဆောင် TSMC ထက်သာလွန်ရန်ရည်ရွယ်ထားသည်။ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာအဆိုပါ lithography ထိတွေ့မှုပစ္စည်းကိရိယာထုတ်လုပ်သူ ASML ကအဆင့်မြင့် EUV ပစ္စည်း ၁၅ ခုကိုမှာသည်။

ထို့အပြင် Intel EUV အစီအစဉ်၏အကြီးအကဲ Britt Turkot ကပြောကြားရာတွင် EUV နည်းပညာသည်အဆင်သင့်ဖြစ်ပြီးနည်းပညာဖွံ့ဖြိုးမှုများစွာတွင်ရင်းနှီးမြှုပ်နှံသည်ဟုပြောကြားခဲ့သည်။ မှတ်ဉာဏ်ကုမ္ပဏီကြီးများ Micron နှင့် Hynix တို့သည် EUV နည်းပညာကိုမိတ်ဆက်ရန်စီစဉ်ကြသည်။ သို့သော်လက်ရှိကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ EUV ပစ္စည်းသည် ASML သာဖြစ်သည်။ စက်မှုလုပ်ငန်းကခန့်မှန်းသည်မှာ ASML သည်တစ်နှစ်လျှင် EUV ပစ္စည်း ၃၀ ခန့်သာထုတ်လုပ်နိုင်ပြီးအဓိကစက်ရုံများ၏ရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှုဖြင့်တည်ဆောက်ခြင်းဖြစ်သည်။ စက်တစ်လုံးရှာရန်၊ တန်းစီရန်နှင့်အခြားစက်ပစ္စည်းများရှာဖွေရန်ခက်ခဲသည်။

EUV ၏အလွန်တိုတောင်းလှသောလှိုင်းအလျား ၁၃.၅ နာနိုမီတာစွမ်းအားရှိသောအလင်းနည်းပညာကြောင့်အဆင့်မြင့်လုပ်ငန်းစဉ်ဒီဇိုင်းကိုပိုမိုကောင်းမွန်စွာခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာနိုင်သည်၊ ချစ်ပ်ထုတ်လုပ်မှုအဆင့်များနှင့်မျက်နှာပြင်အလွှာအရေအတွက်ကိုလျှော့ချပြီးစီးပွားဖြစ်ပြောင်းလဲခြင်း 5G တွင်အမြန်နှုန်းမြင့် - ကြိမ်နှုန်း၏ဝိသေသလက္ခဏာများနှင့်ချစ်ပ်သေးသေးလေးနှင့်အနိမ့်သည်။ မြင့်မားသောစွမ်းအင်လိုအပ်ချက်များသည် Moore ၏ဥပဒေကိုဆက်လက်ကျင့်သုံးရန်အတွက်အရေးကြီးသောနည်းပညာတစ်ခုဖြစ်လာသည်။

သို့သော်ဤရှုပ်ထွေးပြီးစျေးကြီးသောစနစ်ကိုအမြောက်အများထုတ်လုပ်ရန်ခက်ခဲသည်။ Samsung သည် EUV ကို 7-nanometer ဖြစ်စဉ်တွင်စတင်မိတ်ဆက်ခြင်းကိုပထမဆုံးအကြိမ်ကြေငြာခဲ့သော်လည်းထုတ်လုပ်မှုလျော့ကျခြင်းနှင့်ထုတ်လုပ်မှုသည်မလုံလောက်ကြောင်းယခင်ကဖော်ပြခဲ့သည်။ TSMC က ၇-nm start EUV ကိုဘာကြောင့်တင်သွင်းတာလဲ၊ နည်းပညာအသစ်တွေစတင်မိတ်ဆက်မှုကြောင့်သင်ကြားရေးလမ်းကြောင်းကိုဖြတ်ကျော်ဖို့ဘာကြောင့်လိုအပ်တယ်ဆိုတာ TSMC ကပြောကြားခဲ့သည်။ TSMC သည် ၇- nm စွမ်းအားကောင်းသောဗားရှင်းတွင်အတွေ့အကြုံကိုအောင်မြင်စွာလေ့လာခဲ့ပြီးအနာဂတ်တွင် 5-nanometer ဖြစ်စဉ်ကိုချောချောမွေ့မွေ့မိတ်ဆက်ပေးနိုင်သည်။